N-(4-Oxocyclohexyl)phthalimid CAS 104618-32-8: Ein Schlüsselintermediär für Elektronikchemikalien und pharmazeutische Synthese
Entdecken Sie die vielfältigen Anwendungen und chemischen Eigenschaften dieser essenziellen Verbindung für Ihre fortgeschrittene Fertigung.
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N-(4-Oxocyclohexyl)phthalimid
N-(4-Oxocyclohexyl)phthalimid, gekennzeichnet durch die CAS-Nr. 104618-32-8, ist ein kritischer chemischer Baustein, der in der Elektronikchemie – insbesondere in Photoresistformulierungen – intensiv genutzt wird. Seine wohldefinierte Molekülstruktur (C14H13NO3) und hohen Reinheitsgrade garantieren zuverlässige Reproduzierbarkeit in präzisen Prozessen. Darüber hinaus tritt es als bekannte Verunreinigung bei der Synthese bestimmter Arzneistoffe auf, was seine Bedeutung für Qualitätskontrolle und Arzneimittelentwicklung unterstreicht.
- Diese Verbindung dient als fundamentales Molekül in der organischen Synthese und ermöglicht die Herstellung komplexer Moleküle für Hochleistungsmaterialien.
- Das Verständnis der N-(4-Oxocyclohexyl)phthalimid-CAS-104618-32-8-Synthese ist entscheidend für Hersteller, die Ausbeuten und Produktreinheit optimieren möchten.
- Als Photoresist-Baustein leistet sie einen wesentlichen Beitrag zur hochauflösenden Strukturierung in der Halbleiter- und Leiterplattenfertigung.
- Ihre Rolle als pharmazeutische Verunreinigung – z. B. bei Pramipexol – zeigt die Notwendigkeit exakter chemischer Charakterisierung in der pharmazeutischen Intermediärsupply-Chain.
Hauptvorteile
Hohe Reinheit und Konstanz
Mit einer Reinheit von ≥ 98,0 % (GC) stellt dieses Intermediär in empfindlichen elektronischen und pharmazeutischen Anwendungen zuverlässige Ergebnisse sicher und unterstützt präzise N-(4-Oxocyclohexyl)phthalimid-Syntheseprozesse.
Vielseitiges Zwischenprodukt
Seine einzigartige chemische Struktur macht es zu einem wertvlichen Baustein für eine breite Palette organischer Synthesen und trägt zur Entwicklung neuer Werkstoffe und Verbindungen bei.
Kritische Funktion in der Elektronik
Komponente in Photoresistformulierungen für die hochauflösende Strukturierung in moderner Halbleiter- und Leiterplattenproduktion.
Hauptanwendungen
Photoresist-Formulierung
Unverzichtbar zur präzisen Strukturierung auf Halbleiter-Wafern und Leiterplatten – essentiell für die Elektronikindustrie.
Pharmazeutische Synthese
Einsatz als Vorstufe oder Nachweis als Verunreinigung in der Herstellung pharmazeutischer Wirkstoffe – Einfluss auf Arzneimittelentwicklung and Qualitätskontrolle.
Organische-Synthese-Baustein
Vielseitiger Ausgangspunkt zur Synthese organischer Verbindungen und komplexer Moleküle in Forschung und Entwicklung.
Spezialchemikalien
Die spezifischen molekularen Eigenschaften prädestinieren ihn für weitere Einsätze in hochspezialisierten chemischen Industrien.
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