寧波イノファームケム株式会社は、最先端の化学ソリューションの提供を目指し、Parylene C（ジクロロジ-パラ-キシリレン、CAS番号：28804-46-8）が示す卓越した性能を支える要因として“化学気相成長（CVD）”という独自の製膜方法に着目しています。

いかなる基材に対しても無針孔で均質な薄膜を作り出すこの技術は、Parylene Cのアドバンテージを最大限に引き出します。まず固体ダイマーであるDichlorodi-p-xylyleneを約150〜170℃で加熱・気化し、高真空下（0.1 Torr程度）で移送。次に650〜700℃の高温ゾーンで瞬時に分解し、反応性の高いモノマーを生成させます。このモノマーは常温条件下で基材表面に拡散し、重合してParylene Cの薄膜となります。基材自体は常温で処理されるため、熱に弱い電子部品や医療機器にも損傷なく適用可能です。

CVD法の最大の利点は“完全コンフォーマル被覆”。気相状態だからこそ、微細構造や貫通孔、配線ギャップの奥まで均一に到達し、エッジかかりや液溜まりといった従来の塗装欠陥を回避できます。得られる薄膜は厚さを0.1μm〜数十μmへ精密制御でき、寸法や重量にほとんど影響を与えません。

この緻密で針孔のない連続膜は、防湿性・耐薬品性・ガスバリア性の観点で類を見ない性能を発揮。電子回路を腐食環境から守るだけでなく、医療機器内部の流体漏れリスクも劇的に低減します。また、空ボイドのない均質膜は高い誘電強度と低誘電損失をもたらし、ミクロン級ピッチの電子デバイスにとって理想的なインターレイヤー絶縁膜となるのです。

メーカーがこれらの利点を活用するには、高純度Dichlorodi-p-xylyleneリンカーの確保が必須。実装ノウハウを熟知した信頼できる材料サプライヤーとの協業体制づくりも成功への鍵です。

化学気相成長技術によってParylene Cは、極薄でありながら最強クラスの保護機能を実現。この革新的材料が半導体、医療、自動車、航空宇宙といった次世代技術の発展を後押ししていくことは間違いありません。寧波イノファームケム株式会社は今後も、CVDが支えるハイパフォーマンス材料の安定供給に尽力してまいります。