本社発　半導体製造に欠かせないフォトレジスト——それを支える化学品の仕組みについて、寧波イノファームケム株式会社が分かりやすく解説します。ここでは 2-Methyl-2-Propenal（別名メタクリロレアイン、CAS 78-85-3）に焦点を当て、その「なぜ重要なのか」に迫ります。

フォトレジストはフォトリソグラフィーにおける「光のマスク」。回路パターンをシリコンウェハ上に正確に転写するため、露光波長に応じて溶解性が変化する感光性樹脂が必要です。その感度・解像度・エッチング耐性は、メタクリロレアインの純度や官能基設計一つで大きく左右されます。つまり、メタクリロレアインの物性が微細化の限界に挑む装置の成否を握る、戦略的なファインケミカルなのです。

スマートフォンやデータセンター向けチップを量産する現場では、安定した高純度供給が最大の課題。フォトレジスト化学品メーカーとして、寧波イノファームケム株式会社はメタクリロレアインを ppm レベル不純物管理で出荷。これにより、お客様のラインでの歩留まり向上と品質維持が可能となり、CAS 78-85-3 応用分野のさらなる拡大に貢献しています。

半導体の微細化はまだまだ進む。次世代 EUV フォトレジストにも対応すべく、メタクリロレアインをはじめとする高機能中間体の高純度安定供給に、寧波イノファームケム株式会社は世界中の顧客と歩み続けます。