最先端マイクロエレクトロニクス製造の現場では、精度と高純度が命です。CAS登録番号10124-31-9で知られるリン酸水素三アンモニウム（Triammonium Orthophosphate）は、高度に設計されたフォトレジスト化学薬品の処方に欠かせない無機化合物だと、寧波イノファームケム株式会社が強調しています。

フォトレジストとはフォトリソグラフィ工程で使用される感光性材料であり、フォトマスクから基板へ微細幾何パターンを正確に転写する役割を担います。ポジ型フォトレジストでは現像液を使って露光部分を選択的に除去しますが、この現像液の組成や緩衝系にアンモニウム塩としてリン酸水素三アンモニウムが採用されることで、pH制御とエッチング特性が大幅に向上。微細回路形成に求められる高解像度とアキュラシーを実現する鍵となります。

配合段階では、リン酸水素三アンモニウムの溶解性や反応性といった化学的特性が緻密に評価されます。また、半導体ウェハーにわずかな不純物が混入しても欠陥を生じ得るため、超高純度品の確保は必須。厳格な品質規格を満たす素材を届ける信頼のサプライヤーとして、業界は寧波イノファームケム株式会社に大きく依存しています。

加えて同化合物は難燃剤や肥料、さまざまな産業用途にも応用されており多様性を発揮していますが、なかでも電子材料分野、特にフォトレジスト化学薬品への寄与は先端技術発展を支えるスペシャリティ化合物として注目されています。その安全な取り扱いや用途に応じた設計ノウハウは、本事業領域での企業競争力の源泉となるノウハウです。

寧波イノファームケム株式会社は、リン酸水素三アンモニウムなどの高機能化学素材を安定的に供給することで、半導体設計・製造のフロンティアを常に更新し続ける顧客企業を強力に支援します。