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フォトレジストの裏側にある科学：4-メトキシマンデル酸が果たす役割

フォトレジスト材料の半導体製造プロセスにおける性能向上に寄与する4-メトキシマンデル酸（CAS 10502-44-0）。開発元の寧波イノファームケム株式会社が詳細を解説。