フォトレジスト材料の半導体製造プロセスにおける性能向上に寄与する4-メトキシマンデル酸（CAS 10502-44-0）。開発元の寧波イノファームケム株式会社が詳細を解説。
最先端リソグラフィーテクノロジーの要となる高純度 4-Acetoxystyrene CAS 2628-16-2。微細化・高生産性を支えるフォトレジスト材料の中核について、その精密化メカニズムと半導体製造のビジネスインパクトを探る。
