タグ「半導体製造」のニュース記事

フォトレジストの裏側にある科学：4-メトキシマンデル酸が果たす役割

フォトレジスト材料の半導体製造プロセスにおける性能向上に寄与する4-メトキシマンデル酸（CAS 10502-44-0）。開発元の寧波イノファームケム株式会社が詳細を解説。

フォトレジスト材料の科学：メタクリロレアイン (CAS 78-85-3) が果たす役割

フォトレジスト技術の仕組みと、その中でメタクリロレアイン (CAS 78-85-3) が果たす重要な役割を解説。先端デバイスへの応用と信頼できる化学サプライヤーの重要性を探ります。

リン酸水素三アンモニウム：最先端マイクロエレクトロニクスで躍動するフォトレジスト配合の要

寧波イノファームケム株式会社が解説する、マイクロエレクトロニクス製造におけるフォトレジスト化学薬品に欠かせない「リン酸水素三アンモニウム」の重要性を深く掘り下げます。

電子デバイス最先端を支ける「EDTA」、フォトレジスト工程でのキーテクノロジー

EDTA（CAS番号60-00-4）は半導体微細加工の要、フォトレジスト配合で金属不純物を完封。精密露光を支える電子化学薬品の最重要成分を解説。

半導体最先端プロセスの要、電子グレードAA/AMPS共重合体の可能性

寧波イノファームケム株式会社が供�する超高純度分散剤「電子グレードAA/AMPS共重合体」が、微粒子の再付着を防ぎ、半導体クリーニング・研磨プロセスを革新。最先端プロセスへの貢献を解説。