六フッ化モリブデン(MoF6):次世代半導体製造を牽引する

超高純度MoF6で半導体ファブに類まれなる精度を解き放ち、先進CVD/エッチングに不可欠です。

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六フッ化モリブデンの優位性

卓越した純度

99.99%以上というMoF6の純度で、敏感な半導体ファブプロセスのプロセスインテグリティを維持して優れた結果を達成できます。

制御された反応性

MoF6の制御された反応性のおかげで、モリブデン薄膜が均一かつ精密に堆積し、先進材料科学応用に不可欠です。

ナノスケール構造の実現

MoF6の特性により、現在の高密度・高性能電子デバイスで要求されるナノスケール特徴を創出できます。

主要アプリケーション

半導体製造

MoF6はCVDおよびプラズマエッチングに欠かせず、先進集積回路およびマイクロチップの製造を可能にします。

核プロセス

当該化合物は核燃料プロセスで役割を果たし、特化産業応用における重要性を示しています。

触媒

MoF6はフッ化反応における触媒として機能し、化学合成および改質における有用性を実証しています。

材料科学研究

独特の特性によりMoF6は、材料科学および先端技術における最先端研究で貴重な化合物となっています。