最先端エレクトロニクスを3-フォルミル-5-ヒドロキシベンゾニトリルで開拓

カットティングエッジフォトレジスト配合及び先進的医薬品イノベーションに必須の化学中間体。

コア価値

この高純度化学化合物は、先進的電子化学品合成、特にフォトレジスト材料開発における重要なビルディングブロックとして機能します。その独自の化学構造により、複雑な医薬品分子の創製においても貴重な中間体となっています。

保証純度0.99により、この化学中間体は感度の高い電子化学プロセスで一貫した信頼性を確保し、高収率と低欠陥に貢献します。

フォトレジスト化学用途の主要コンポーネントとして、また革新的な医薬品合成原料開発の基礎物質として、複数の業界に活用できる汎用性を誇ります。

洗練されたフォトレジストの創出を促進することで、本化合物は半導体製造やその他ハイテック電子製造プロセスの高度化において役割を果たします。

フォトリソグラフィーで使用されるフォトレジストの配合において不可欠であり、回路パターンを半導体ウェハへ高精度に転写する重要ステップを電子化学品生産で実現します。

活性医薬成分（API）や複雑有機分子を合成するための貴重なビルディングブロックとして働き、医薬品原料分野の研究開発をサポートします。

反応性官能基により、多様なファインケミカル合成プロジェクトに理想的なスターティングマテリアルとなり、化学製品の多様性に貢献します。

学術および産業R&Dにおいて必須で、新規化学反応や材料物性を探求する科学者に信頼できる化合物を提供し、スペシャルティ中間体分野のイノベーションを支援します。

当社の専門知識と最新のインフラを活用し、研究開発から商業的成功までの道のりを加速させます。

20年にわたる研究開発、製造、販売の経験を持ち、世界60カ国・地域のお客様にサービスを提供しています。

社内の研究開発ラボ、パイロットプラットフォーム、および大規模生産ワークショップは、グローバルなお客様の監査要件を満たすように設備されています。

小規模なラボ要件（グラム単位）から完全な商業化（数百トン単位）まで、完璧な移行を促進します。