Foto-initiador Avançado OXE-02: Alta Sensibilidade e Desempenho em Formulações Cura UV
Desbloqueie desempenho superior com nosso foto-initiador altamente eficiente, perfeito para aplicações de vanguarda em cura UV.
Obter Cotação e AmostraValor Principal do Produto
![1-[9-Etil-6-(2-metilbenzoil)-9H-carbazol-3-il]etanona 1-(O-acetiloxima)](https://www.nbinno.com/2025/webimg/gemini_6888a91662162_1753786646.png)
1-[9-Etil-6-(2-metilbenzoil)-9H-carbazol-3-il]etanona 1-(O-acetiloxima)
Este foto-initiador avançado é uma base para formulações curáveis por UV de alta performance. Oferece sensibilidade excepcional e capacidades robustas de cura, tornando-o ideal para aplicações exigentes em eletrônicos e ciência dos materiais. Sua estrutura química única permite geração eficiente de radicais sob exposição UV, facilitando polimerização rápida para acabamentos superiores.
- Aproveite a alta sensibilidade para formulações exigentes de foto-resistores curáveis por UV, garantindo cura precisa e rápida.
- Obtenha excelente desempenho de cura mesmo em formulações altamente pigmentadas, um benefício-chave para resist de filtros coloridos.
- Beneficie-se de sua eficácia em aplicações como fabricação de matriz negra para displays, garantindo imagens de alta qualidade.
- Use sua capacidade de iniciar polimerização em vários compostos etilenicamente insaturados para aplicações avançadas em ciência dos materiais.
Vantagens que Você Obtém
Foto-sensibilidade Excepcional
Experimente desempenho incomparável com sua foto-sensibilidade extremamente alta, crucial para alcançar foto-polimerização radical rápida e eficiente.
Cura Superior em Sistemas Pigmentados
Este foto-initiador demonstra desempenho extraordinário em formulações resistoras altamente pigmentadas, um fator crítico para aplicações como revestimentos e tintas curáveis por UV.
Ampla Gama de Aplicações
Desde materiais espaçadores de LCD até formulações de poliamidas fotossensíveis, sua ampla aplicabilidade em ciência avançada de materiais o torna uma escolha versátil.
Principais Aplicações
Formulações de Foto-resistor
Essencial para criar foto-resistores de alta performance usados na fabricação de semicondutores, aproveitando suas capacidades precisas de cura.
Tecnologia de Display
Crítico para resist de filtros coloridos e fabricação de matriz negra, melhorando a qualidade e performance de displays eletrônicos.
Revestimentos e Tintas
Melhora a velocidade de cura e durabilidade em revestimentos e tintas curáveis por UV, oferecendo resistência a produtos químicos e arranhões.
Adesivos
Contribui para tempos de cura mais rápidos e ligação mais forte em formulações de adesivos curáveis por UV.