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Hexafluorpropen-Trimer
CAS-Nr. 6792-31-0

Hexafluorpropen-Trimer

Hochreines Hexafluorpropen-Trimer (CAS 6792-31-0) zur Synthese hochentwickelter fluorierter Materialien. Verlässliche Versorgung inklusive vollständigem CoA und technischer Beratung.

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Heptafluorisopropyljodid
CAS-Nr. 677-69-0

Heptafluorisopropyljodid

Hochreines Heptafluorisopropyljodid (CAS 677-69-0) fungiert als essenzieller fluorierter Baustein für die pharmazeutische und agrochemische Synthese.

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1-Butyl-3-methylimidazolium-Dibutylphosphat
CAS-Nr. 663199-28-8

1-Butyl-3-methylimidazolium-Dibutylphosphat

Hochreines Reagenz auf Basis ionischer Flüssigkeiten für anspruchsvolle Synthese- und Extraktionsverfahren. Lieferbar in Großmengen inklusive umfassender Qualitätsnachweise.

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2,4-Dihydroxybenzaldehyd
CAS-Nr. 95-01-2

2,4-Dihydroxybenzaldehyd

Hochreines 2,4-Dihydroxybenzaldehyd (CAS 95-01-2) – entwickelt für die Pharma- und Farbstoffsynthese. Garantierte Versorgungssicherheit durch rigorose Qualitätskontrolle.

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N-Boc-Glycin-Methylester
CAS-Nr. 31954-27-5

N-Boc-Glycin-Methylester

Ein hochreines, geschütztes Aminosäurederivat. Unverzichtbar für die Pharmasynthese und Anwendungen in der organischen Chemie.

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2-Methoxypyrazin
CAS-Nr. 3149-28-8

2-Methoxypyrazin

Hochreines 2-Methoxypyrazin als Flüssigkeit für die Aromen- und Duftstoffsynthese. Ideales Zwischenprodukt zur Erzeugung röstiger und nussiger Noten in professionellen Rezepturen.

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4-Methoxyphenylboronsäure
CAS-Nr. 45713-46-0

4-Methoxyphenylboronsäure

Hochreine 4-Methoxyphenylboronsäure, entwickelt für die Synthese fortschrittlicher Flüssigkristallmaterialien und organische Kupplungsreaktionen.

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3-Brom-2-Fluor-5-Methylpyridin
CAS-Nr. 17282-01-8

3-Brom-2-Fluor-5-Methylpyridin

Hochreines 3-Brom-2-Fluor-5-Methylpyridin (CAS 17282-01-8) für die fortschrittliche Pharmasynthese. Verlässliche Lieferkette mit ≥98,0% Reinheit für globale Forschungs- und Produktionsanforderungen.

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UV-Absorber 531 (Octabenzone)
CAS-Nr. 1843-05-6

UV-Absorber 531 (Octabenzone)

Hochleistungs-UV-Absorber auf Benzophenon-Basis für maximalen Polymerschutz und Beschichtungsstabilität.

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