Produits pour le Sujet : Photoresist

Acide 4,4'-méthylènebis[3-hydroxy-2-naphtoïque], composé avec 10,11-dihydro-N,N-diméthyl-5H-dibenz[b,f]azépine-5-propylamine (1:2)

Rose Bengal

2-Pentanol

1-[(4-Chlorophényl)phénylméthyl]-4-[(3-méthylphényl)méthyl]-pipérazine, chlorhydrate (1:2)

Acétate de Propylène Glycol Méthyl Éther

Acide 1,1-Cyclohexanediacétique

Topiramate CAS 97240-79-4

3(2H)-Pyridazinone,4,5-dihydro-6-[2-(4-methoxyphenyl)-1H-benzimidazol-6-yl]-5-methyl-

Carbonate de Sodium Monohydraté

Diphenyl-2,4,6-trimethylphenylsulfonium p-Toluenesulfonate

Acide silicique, sel de magnésium et de sodium

CAS 101289-18-3

Complexe d'aluminium, dérivés sulfo de 2-(2-quinolinyl)-1H-indène-1,3(2H)-dione

1,4-Dichlorobenzène

4-(Diéthylamino)benzhydrazide

Chloro-bis(isopropylamino)-s-triazine

N-Acétyl-L-lysine