Dalam ranah fotolitografi, pilihan antara photoresist positif dan negatif adalah keputusan kritis yang sangat memengaruhi hasil proses pola. Kedua jenis bahan kimia photoresist ini sensitif terhadap cahaya tetapi beroperasi melalui mekanisme yang berbeda, yang mengarah pada pembentukan pola yang berbeda dan kesesuaian untuk berbagai aplikasi. NINGBO INNO PHARMCHEM CO.,LTD. menawarkan rangkaian lengkap keduanya, memungkinkan produsen untuk memilih solusi yang optimal sebagai pemasok bahan kimia terkemuka.

Photoresist Positif adalah jenis yang lebih umum digunakan di industri. Ketika terpapar cahaya melalui masker, area yang terpapar photoresist positif mengalami perubahan kimia, biasanya menjadi lebih larut dalam larutan pengembang. Akibatnya, setelah pengembangan, area yang terpapar cahaya dihilangkan, meninggalkan pola yang merupakan replika langsung dari area buram pada photomask. Proses ini ideal untuk menciptakan detail halus dan mencapai resolusi tinggi, menjadikannya pilihan utama untuk desain yang rumit dalam fabrikasi semikonduktor dan aplikasi mikroelektronik canggih. Kemampuan resolusi tinggi adalah keuntungan utama ketika membahas aplikasi photoresist positif.

Photoresist Negatif, di sisi lain, berfungsi secara terbalik. Ketika terpapar cahaya, area yang terpapar photoresist negatif mengalami perubahan kimia, biasanya cross-linking atau polimerisasi, yang membuatnya kurang larut dalam pengembang. Oleh karena itu, setelah pengembangan, area yang terpapar cahaya tetap ada pada substrat, sementara area yang tidak terpapar dihilangkan. Ini menghasilkan pola yang merupakan replika terbalik dari photomask. Photoresist negatif sering disukai karena adhesinya yang sangat baik pada substrat dan ketahanannya terhadap proses etsa tertentu. Mereka juga dapat menawarkan umur simpan yang lebih lama dan kadang-kadang dipilih untuk aplikasi di mana persyaratan resolusi kurang ketat tetapi ketahanan sangat penting.

Pilihan antara photoresist positif dan negatif sering kali bergantung pada persyaratan spesifik dari proses litografi, termasuk fidelitas pola yang diinginkan, bahan substrat, kondisi etsa, dan pertimbangan biaya. Misalnya, geometri rumit yang dibutuhkan untuk semikonduktor mutakhir biasanya cenderung menggunakan photoresist positif karena resolusi superiornya. Namun, untuk aplikasi tertentu seperti manufaktur PCB atau saat berurusan dengan sifat reflektif substrat yang menantang, resist negatif mungkin menawarkan keuntungan yang berbeda.

NINGBO INNO PHARMCHEM CO.,LTD. menyediakan bahan kimia photoresist positif dan negatif, memahami persyaratan modern manufaktur yang bernuansa. Baik Anda perlu membeli bahan kimia photoresist untuk pemolaan semikonduktor beresolusi tinggi atau resist negatif yang kuat untuk komponen elektronik lainnya, portofolio produk kami dirancang untuk memenuhi kebutuhan industri yang beragam. Kami membimbing klien kami dalam memilih jenis photoresist yang paling sesuai untuk memastikan hasil yang optimal dan produksi yang efisien.