4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノール：先端材料および半導体製造に不可欠なフッ素化中間体
革新的な新材料の開拓および最先端の半導体製造を可能にする、4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノール（CAS 234443-21-1）の重要な役割を探求してください。主要なフッ素化ビルディングブロックとしての化学的特性と応用をご確認ください。
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4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノール
中国におけるフッ素化中間体の主要なメーカーおよびサプライヤーとして、高純度の4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノール（CAS 234443-21-1）を提供しています。この化合物は、高度な微細加工技術や半導体リソグラフィで使用されるフッ化スルホン酸エステルの合成に不可欠です。信頼できる供給と卓越した品質にご期待ください。
- フッ化スルホン酸エステルの合成：微細加工用レジスト材料の開発に不可欠です。
- 半導体産業：チップ製造におけるリソグラフィプロセスに極めて重要です。
- 化学ビルディングブロック：新規材料および医薬品の研究開発における多様な用途に活用できます。
- 信頼できるサプライヤー：バルクおよびサンプル数量の信頼できる供給源であり、競争力のある価格で提供します。
当社のフッ素化中間体調達におけるメリット
高純度および品質保証
当社の4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノールは98.0%以上の純度を保証し、お客様の重要なアプリケーションでの安定した性能を約束します。各ロットについて包括的なCOAを提供します。
フッ素化学における専門知識
当社のフッ素化学に関する深い知見を活用し、お客様が必要とする正確なビルディングブロックを調達してください。当社は、革新的なフッ素含有材料の専任サプライヤーです。
グローバルサプライチェーンと競争力のある価格
主要なメーカーとして、4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノールを競争力のある価格で提供し、プロジェクトのコスト効率を確保します。今すぐ購入または見積もりをご依頼ください。
イノベーションを推進する主要な用途
半導体リソグラフィ
当社の4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノールが、半導体製造における高解像度リソグラフィ用先進フォトレジスト材料の作成にどのように役立つかをご覧ください。
微細加工技術
この化合物は、微細加工に使用される特殊材料の開発における基盤であり、微細スケールでの精密エンジニアリングを可能にします。
新規材料合成
4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブタノールを、新しい材料科学アプリケーションにおける多様なフッ素化ビルディングブロックとして、研究開発の可能性を探ってください。
化学研究開発
この中間体を研究活動に活用し、複雑なフッ素化化合物を合成し、新しい化学経路を探索してください。
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