N-アセチル-L-リジン：先端電子化学品におけるキーコンポーネント
フォトレジスト技術および電子材料合成の高度な世界における、N-アセチル-L-リジンの不可欠な役割を発見してください。当社のN-アセチル-L-リジンは、主要メーカーより高品質・安定供給をお約束し、競争力のある価格で提供いたします。
価格・サンプルのお問い合わせ製品のコアバリュー
N-アセチル-L-リジン
CAS番号1946-82-3で特定されるN-アセチル-L-リジンは、電子化学品分野、特にフォトレジストの配合において主に使用される不可欠な特殊化学品です。その精密な分子構造と特性は、半導体製造やその他の先進的な電子用途に不可欠な高性能材料の作成に欠かせません。N-アセチル-L-リジンの特性を理解することは、生産プロセスを最適化し、マイクロエレクトロニクスで望ましい結果を達成するための鍵となります。当社のN-アセチル-L-リジンは、信頼できるサプライヤーとして、お客様の製造プロセスをサポートします。
- 精密な化学組成：分子式C8H16N2O3、分子量188.2242を持つこのN-アセチル-L-リジンは、要求の厳しい電子化学品用途に一貫した品質を提供し、フォトレジスト化学品の用途における信頼できる選択肢となります。
- 最適な物理的特性：白色～微白色の結晶性粉末としての外観は、複雑な化学配合への取り扱いと統合を容易にし、化学合成での使用をサポートします。
- 多用途な応用：主にエレクトロニクス産業に貢献しており、集積回路やその他のマイクロエレクトロニックデバイスの製造における基本的な要素であるフォトレジストの開発と生産に不可欠であり、N-アセチル-L-リジン CAS 1946-82-3におけるその役割を強調しています。
- アミノ酸誘導体の利点：必須アミノ酸の誘導体として、先進的な材料科学およびファインケミカル用途で活用できる独自の生化学的特性を提供し、電子材料におけるアミノ酸誘導体の分野に貢献しています。
製品の優位性
フォトレジストにおける性能向上
N-アセチル-L-リジンの特定の化学構造は、フォトレジスト配合の性能特性に大きく貢献し、半導体製造に要求される精密なパターニングを支援します。これはN-アセチル-L-リジン CAS 1946-82-3の重要な側面です。
化学合成における信頼性
高純度化合物として、化学合成プロセスにおける一貫性と信頼性を確保し、先進的な電子材料の製造に不可欠であり、電子材料におけるアミノ酸誘導体の必要性をサポートします。
先進的電子製造の促進
フォトレジスト技術への応用は、マイクロエレクトロニクス製造の複雑なプロセスを直接サポートし、電子部品の生産における革新と効率を推進し、フォトレジスト化学品の用途におけるその役割を示しています。
主要な用途
電子機器製造
現代のエレクトロニクスに不可欠な、半導体ウェハー上の複雑な回路パターンの作成を可能にするフォトリソグラフィプロセスに不可欠であり、N-アセチル-L-リジン CAS 1946-82-3に直接関連しています。
フォトレジスト配合
感度、解像度、現像特性に影響を与えるフォトレジスト配合の主要成分として機能し、フォトレジスト化学品の用途におけるその重要性を強調しています。
特殊化学品合成
高技術用途向けに設計され、精密な分子構造を必要とする様々な特殊化学品の合成において、中間体または成分として利用され、電子材料におけるアミノ酸誘導体としてのその性質から恩恵を受けています。
研究開発
先端材料およびファインケミカル分野における新しい材料特性および合成経路の探求において、R&D設定で高く評価されており、電子化学品開発における革新をサポートしています。
関連技術記事と資料
関連する記事は見つかりませんでした。