4-アセトキシスチレン (CAS 2628-16-2): 先端フォトレジスト・ポリマー合成に不可欠なモノマー
最先端の半導体製造および高性能ポリマー開発を支えるキーケミカル中間体、4-アセトキシスチレンをご紹介します。弊社は主要サプライヤーとして、研究開発および生産に不可欠な本化合物を供給しております。
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4-アセトキシスチレン (CAS 2628-16-2)
4-アセトキシスチレンは、先端材料の創製に不可欠な、非常に多用途で安定したスチレン誘導体です。中国のリーディングメーカーとして、高純度と信頼できる供給を保証し、現代の微細加工を牽引する化学増幅型フォトレジストの重要成分であるポリ（p-ヒドロキシスチレン）の製造に欠かせない前駆体となっています。本化合物は精密な重合制御に優れており、化学者や材料科学者にとって比類なき柔軟性を提供します。
- ポリ（p-ヒドロキシスチレン）の前駆体: 信頼できる製造施設から高品質な4-アセトキシスチレンを調達し、ポリ（p-ヒドロキシスチレン）合成にご活用ください。
- フォトレジストのコア成分: 集積回路の精密なパターン形成を可能にする先端フォトレジストの配合に、この必須モノマーをご購入ください。
- ポリマー合成における多様性: 弊社の4-アセトキシスチレンを用いた制御重合技術により、特性を精密に調整した特殊ポリマーを開発できます。
- 材料性能の向上: 弊社の4-アセトキシスチレンをポリマー合成に利用し、高性能接着剤や先端コーティング材を開発してください。バルク価格についてもご相談ください。
4-アセトキシスチレンの主な利点
ポリマー特性の強化
4-アセトキシスチレンをポリマーにグラフト化することで、DC抵抗率や絶縁破壊強度などの電気的特性が大幅に向上し、先端絶縁用途に最適です。この性能向上に貢献する化学品の購入をご検討ください。
重合における精密制御
4-アセトキシスチレンを用いたラジカル制御重合技術により、分子量分布が狭く予測可能な構造を持つポリマーを実現できます。研究開発および生産における信頼できるサプライヤーです。
多様な化学反応性
その構造はp-ヒドロキシスチレンへの誘導体化を可能にし、広範な機能性材料や特殊化学品への道を開きます。これらの可能性を探求するために、信頼できるメーカーから4-アセトキシスチレンをご購入ください。
主要用途
半導体製造
微細加工プロセスに不可欠な4-アセトキシスチレンは、先端マイクロチップ製造に不可欠なフォトレジストポリマーの骨格を形成します。この重要部品の購入については、お問い合わせください。
先端材料・コーティング
ポリマー合成に利用される本化合物は、耐久性を向上させた高性能接着剤および保護コーティングに貢献します。お客様の材料ニーズに応える信頼できるサプライヤーです。
エポキシ樹脂システム
硬化剤として、4-アセトキシスチレンはエポキシ樹脂の性能を向上させ、様々な用途における強度と耐薬品性を高めます。大量注文の見積もりをリクエストしてください。
特殊化学品製造
多用途な化学中間体として、複雑な有機化合物の合成を容易にします。品質と一貫性を確保するために、信頼できるメーカーから4-アセトキシスチレンをご購入ください。
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