先端微細加工向け高性能フォトレジスト化学品

高解像度と優れた加工性を実現する最先端フォトレジストソリューションで、要求の厳しいアプリケーションに対応した精密微細電子部品製造をご支援します。当社の化学品は、信頼できる中国のメーカーから供給されており、お客様のニーズに合わせた価格で提供可能です。

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製品のコアバリュー

2-(2-ヒドロキシエトキシ)フェノール

この先進的なフォトレジスト組成物は、革新的なポリマー化学の成果であり、MEMS加工やその他の微細電子アプリケーションの厳しい要求に応えるように設計されています。中国における信頼できるサプライヤーとして、優れた垂直側壁プロファイルを持つ高アスペクト比パターニングを可能にする材料を提供しています。中国のメーカーとしての当社のコミットメントは、お客様の重要なプロジェクトに対し、一貫した品質と性能をお約束します。

MEMS製造プロセスに不可欠な、優れた解像度と高アスペクト比パターニングを実現します。
環境に優しい水系アルカリ現像液による処理を採用し、プロセス安全性を向上させます。
金属めっき後の硬化フォトレジストの剥離が容易で、後処理工程を簡素化します。
要求の厳しい加工環境下での完全性を保証する、優れた耐溶剤性および耐めっき性を活用できます。

製品が提供する利点

卓越したパターン忠実度

このフォトレジストは、驚くべき精度で複雑なパターンを作成することを可能にし、洗練された微細電子デバイスや部品の開発をサポートします。詳細な製品仕様や価格については、お気軽にお問い合わせください。

向上した加工性

水系アルカリ現像液との適合性や剥離容易性により、製造ワークフローが合理化され、先進的なフォトレジスト技術を求めるユーザーの全体的な効率が向上します。

堅牢な材料性能

溶剤や各種めっき薬品に対する優れた耐性により、この材料は加工された微細構造の耐久性と信頼性を保証し、高性能アプリケーションにとって重要な側面です。

主な用途

MEMS加工

高アスペクト比パターニング能力を活かして複雑な微細構造を生成し、マイクロ・電気・機械システム（MEMS）の製造に理想的です。

微細電子部品めっき

電気めっきプロセスにおける重要なレジストとして機能し、詳細な金属バンプ接続や導電性層の形成を可能にします。

マイクロマシン部品

その堅牢な特性により、マイクロマシンの製造に適しており、小型機械システムにおける信頼性を確保します。当社はこれらの用途向けの材料を供給する主要メーカーです。

特殊コーティング

精密なパターニングと耐薬品性を必要とする導電性層やその他の特殊コーティングの形成に適用可能です。