半導体製造の工程は微細化を極め、高度な洗浄技術が不可欠になっています。寧波イノファームケム株式会社は、電子グレードDMSO（ジメチルスルホキシド）が持つ独自の物性が、繊細な電子部品の清浄性と信頼性を守る鍵となると注目しています。

マイクロエレクトロニクスでは、有機残渣、ポリマー皮膜、金属不純物といった多様な汚染物質を、デリケートな基板を傷めずに除去する必要があります。電子グレードDMSOは圧倒的な溶解力を発揮し、有機・無機双方の化合物に対応。そのため、微細パターン形成後のウェハー洗浄で粒子汚染ゼロを実現します。

またフォトレジスト剥離への適用も革新的です。高集積チップでは、ノボラック系やアクリル系フォトレジストを、下地を傷めることなく除去する必要があります。DMSOはアルカリ添加系との相性も良好で、硬化したり金属が混入したレジストでも確実に剥離します。これにより「DMSOフォトレジストストリッパー」は最先端プロセスに欠かせません。

さらにTFT-LCDカラーフィルターのリワークやエッジビード除去など、選定的なポリマー溶解が求められる用途でも威力を発揮します。水溶性にも優れるため、リンス・乾燥工程も短縮でき、歩留まり向上に直結します。「ウェハー洗浄用DMSO溶媒」への評価が高まる理由は、この包括的な洗浄性能にあります。

寧波イノファームケム株式会社は、微細化プロセスに求められる厳格な純度基準に準拠した電子グレードDMSOを安定供給。先端化学ソリューションで、顧客の技術革新を支えます。