化学プラントから電子デバイス製造に至るまで、金属が酸性雰囲気にさらされる場面は枚挙に暇がない。特に高い導電性と加工性で広く利用される銅は、酸性条件下で腐食しやすいという弱点を抱える。こうした課題を認識し寧波イノファームケム株式会社は、革新的な化学ソリューションの最前線に立ち続けてきた。

今回発表したのは、開発コードDAMPと呼ばれる新規有機リン誘導体。同社の研究チームは、過酷な酸性媒体——塩酸および硫酸——でも高い抑制効果を示す分子設計に成功した。従来手法では限界があった分野で、銅の腐食速度を大幅に低減し、設備の長寿命化と運用効率向上に寄与する。

DAMPの鍵は独自の吸着メカニズムにある。窒素・酸素・リンの各ヘテロ原子が銅表面に選択的に配位し、緻密な保護皮膜を形成。この膜は腐食因子との直接的接触を物理的に遮断し、安定した防食効果をもたらす。

その実効性は、電気化学インピーダンス分光法（EIS）およびタフェル分極測定など先端テクニックで詳細に評価された。いずれの実験でも高い抑制効率が確認され、DAMPによる銅への吸着挙動は既成モデルに整合することから再現性は高い。

さらに量子化学計算により、分子軌道レベルでの相互作用機構を明らかにした。理論値と実験値が示唆するシナジーは、DAMPが単なる添加剤に留まらず、本質的な腐食防護メカニズムを備えた分子であることを裏付ける。

強酸性環境に耐える信頼性の高い腐食抑制剤を求める業界関係者に向けて、DAMPは有力な選択肢となる。寧波イノファームケム株式会社は、今後も高性能化学添加剤を通じて、産業プロセスの最適化とメンテナンスコスト削減をサポートしていく方針だ。同社ウェブサイトでは技術資料や実装サポートの詳細を順次公開するとしている。