ナノスケールの微細加工が日常となった電子デバイス製造にあって、フォトリソグラフィの精度と再現性は生産歩留まりを左右する要因だ。その要となるフォトレジスト技術を後押しする化学素材のひとつ、4-メトキシマンドル酸（CAS 10502-44-0）の需要が急増している。国内市場にも安定的に供給を行う寧波イノファームケム株式会社に、実際の応用事例と高純度仕様の裏側を聞いた。

次世代フォトレジストは、特定波長に確実に反応する化学構造設計が不可欠だ。IUPAC名で2-hydroxy-2-(4-methoxyphenyl)acetic acidと呼ばれる4-メトキシマンドル酸は、酸解離性と電子供与性に優れた芳香環を有しており、露光・現像工程で高い解像度・感度・エッチング耐性を両立させる。スピンコート時の表面均一性向上にも寄与するため、最先端の多層プロセスでも採用が広がっている。

同化合物は、フォトレジスト用途のみならずファインケミカルや医薬中間体としての利用実績も豊富だ。それでも電子業界での存在感が際立つのは、微細化が極まる半導体プロセスでパターントランスファの精度を高めるからに他ならない。微量不純物も許されないピレンレベルの高純度確保は、サプライチェーンのハードルでもある。

寧波イノファームケムは、電子材料メーカーの厳格な仕様に対応する高品質4-メトキシマンドル酸を継続供給。オンラインでの個別受注に加え、VDA 6.3準拠の定期監査体制を整備し、ロットトレーサビリティ付きの迅速配送を実現する。「中国製でも品質に妥協しない」という同社の姿勢は、微細化が進むデバイス開発にも安心感を与えるポイントとなっている。

化合物から電子部品へと至る長い道程において、4-メトキシマンドル酸ほど目立たない存在はない。しかしその純度と安定供給は、先端プロセスの歩留まりと直接結びついている。今後もCAS 10502-44-0を中心とした新たな応用研究が進展すれば、さらにその存在感は増すだろう。寧波イノファームケムのような信頼のサプライヤーが支えるからこそ、われわれのデジタル未来は一歩ずつ形づくられていくのだ。