微細化が加速度するマイクロエレクトロニクス分野において、フォトレジスト材料の精密化学はもはや競争力の要だ。その舞台裏で注目を集めているのが CAS 番号 100139-54-6 に名を連ねる 4-(ジエチルアミノ)ベンズヒドラジドだ。分子式 C₁₁H₁₇N₃O、分子量 207.27の有機化合物は、高感度・高解像フォトレジスト合成の“キーテクノロジー”として存在感を増している。

この化合物の最大の武器は、露光プロセスにおける中間体としての機能にある。特定波長の光を受けると瞬時に感光反応を開始し、半導体ウェハ上のナノレベルのパターン形成に必須な精度をもたらす。その結果、さらなる微細化・高集積化を目指す最先端集積回路の製造工程で高い歩留まりを実現する。

いま、装置メーカーや研究機関は“高純度”という品質指標にこだわる。オンライン調達が可能な 4-(ジエチルアミノ)ベンズヒドラジドでも、不純物レベルのばらつきが露光耐性やリソグラフィー再現性を直撃する。基礎研究レベルから量産プロセスまで、品質を常に一定に保てる仕入れ先の確保が、技術競争に勝ち残る絶対条件となっている。

寧波イノファームケム株式会社は、電子化学材料イノベーションに寄与する高品質中間体を提供すべく、グローバルな精製技術と品質管理体制を両立。当社では 4-(ジエチルアミノ)ベンズヒドラジドの開発・安定供給を軸に、ナノスケールデバイスの更なる小型化・高性能化に向けたソリューションを積極展開している。フォトレジスト開発のフロンティアは、今ここである。