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ニュースタグ: フォトレジスト用化学品
ニュース記事タグ: フォトレジスト用化学品
O‐フタルアルデヒドがフォトレジスト・高分子合成に果たす役割
O‐フタルアルデヒド(OPA)が、最先端フォトレジストや高分子合成にどう貢献するかを解説。マイクロエレクトロニクスやハイテク産業に欠かせない材料技術を概観できます。