ニュース記事タグ: フォトレジスト化学

フォトレジスト化学の革新 ── 未来技術を担う4-メトキシマンデリック酸の活用

CAS 10502-44-0、4-メトキシマンデリック酸の高い化学多様性が、次世代エレクトロニクス向けフォトレジスト技術革新を牽引する。その可能性を寧波イノファームケム株式会社が詳説。

N-ラウロイル-L-リジン──フォトレジスト用高機能材として電子産業の鍵を握る

フォトレジスト化学材料に欠かせない高純度N-ラウロイル-L-リジン（CAS 52315-75-0）──その化学的特性と電子デバイス応用について、寧波イノファームケム株式会社が詳説。微細化が進む半導体プロセスの要を解説します。