LB-100：ナノリソグラフィ向け非ケミカル増幅型フォトレジストの重要仕様を解説。解像度、耐エッチング性、先端製造における応用メリットについて。お見積もり依頼はこちら。
高解像リソグラフィの要となる化学材料として注目を集める4-アセトキシスチレン（CAS 2628-16-2）。微細パターン形成に欠かせない性能と応用を解説します。
