첨단 전자 응용 분야를 위한 고성능 포토레지스트 화학물질
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견적 및 샘플 받기제품 핵심 가치
1H,4H-[1,3]Thiazeto[3,2-a]quinoline-3-carboxylic acid, 6-fluoro-1-methyl-4-oxo-7-(1-piperazinyl)-
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제품 장점
비교할 수 없는 순도
당사의 포토레지스트 화학물질은 민감한 반도체 제조 공정의 무결성을 유지하는 데 필수적인 탁월한 순도 수준을 보장하여 복잡한 전자 부품 제조의 수율을 향상시킵니다.
정밀한 응용
정밀하게 설계된 이 플루오로 퀴놀린 포토레지스트는 고급 마이크로전자공학에 필요한 복잡한 패턴 전송을 가능하게 하여 반도체 제조의 복잡한 설계를 지원합니다.
신뢰할 수 있는 공급업체
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주요 응용 분야
반도체 제조
전자 화학물질의 주요 분야인 반도체 제조에서 복잡한 회로 패턴 생성을 가능하게 하는 리소그래피 공정에 필수적입니다.
마이크로전자공학
장치 성능 및 신뢰성에 고순도와 특정 화학적 특성이 가장 중요한 마이크로전자 부품 생산에 필수적입니다.
전자 부품 제조
현대 전자 산업의 까다로운 요구 사항을 지원하는 다양한 전자 부품의 정밀한 라미네이팅 및 패턴 형성에 사용됩니다.
화학 중간체
전자 재료 분야 내 고급 응용 분야를 위한 더 복잡한 화학 물질 합성의 중요한 중간체 역할을 합니다. 최고 품질의 화학 중간체 가격 정보를 원하시면 문의하십시오.
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