N,N-디벤질에탄올아민 (CAS 101-06-4): 포토레지스트용 고품질 전자 화학물 공급
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N,N-디벤질에탄올아민 (CAS 101-06-4)
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N,N-디벤질에탄올아민의 주요 응용 분야
포토레지스트 배합
N,N-디벤질에탄올아민은 마이크로일렉트로닉스 제조에 사용되는 첨단 포토레지스트의 합성 및 배합에 필수적인 구성 요소입니다.
반도체 제조
특정 특성은 반도체 및 집적 회로 생산에 필요한 정밀한 패터닝에 기여합니다.
유기 합성
정밀 화학 산업 내 다양한 유기 합성 경로에서 귀중한 중간체 역할을 합니다.
전자 화학물 분야
특수 화학물로서, 재료 과학의 혁신을 지원하며 더 넓은 전자 화학물 시장에서 역할을 합니다. 이 분야의 전문 제조업체로서, 당사는 귀사의 성공을 지원합니다.
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