제품 카테고리: 포토레지스트 화학 물질

(1R,2R,4S)-2-[(5-헥센-1-일메틸아미노)카르보닐]-4-[[7-메톡시-8-메틸-2-[4-(1-이소프로필)-2-티아졸릴]-4-퀴놀리닐]옥시]-시클로펜탄카르복실산 메틸 에스테르

1-[(4-Chlorophenyl)phenylmethyl]-4-[(3-methylphenyl)methyl]-piperazine, hydrochloride (1:2)

1-β-D-아라비노푸라노실우라실

1,3-벤젠디카복사마이드, N,N'-비스(1-메틸에틸)-

1,4-디이소프로필벤젠

1,4-페닐렌 디이소시아네이트

1H-Tetrazol-5-amine,1-ethenyl-

2-(2-메톡시페녹시)에틸아민 염산염

2-(2,2-디메틸-1,3-디옥산-5-일)에탄올

2-(6-메톡시피리딘-2-일)아세토니트릴

2-[[(2,4-디플루오로페닐)-2-옥시라닐]메틸]-1H-1,2,4-트리아졸 메탄설포네이트

2-브로모-5-니트로아닐린

2-브로모-5-플루오로벤조산

2-시아노에틸 N,N,N',N'-테트라이소프로필포스포로디아미다이트

2-시아노이미노티아졸리딘

2-클로로만델산

2,4(1H,3H)-피리미딘디온, 6-[[3-[4-(2-메톡시페닐)-1-피페라지닐]프로필]아미노]-1,3-디메틸-

2,5-디메틸페놀

2,6-bis(3-(9H-carbazol-9-yl)phenyl)pyridine

2'-하이드록시아세토페논

3-(벤조일티오)-2-메틸프로판산

3-브로모벤질 알코올

3-카르복시-5-니트로페닐붕산

4-(트리플루오로메틸)벤젠-1-설포닐 클로라이드