3-(3,5-다이메틸페녹시)프로판-1,2-다이올 CAS 59365-66-1: 포토레지스트 제형을 위한 고순도 전자화학 원료 (제조업체 및 공급 가격 문의)
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3-(3,5-다이메틸페녹시)프로판-1,2-다이올
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전자 제품 제조의 주요 응용 분야
포토레지스트 제형
반도체 제조의 포토리소그래피 공정에 필수적인 첨단 포토레지스트 합성에 있어 주요 구성 요소입니다.
마이크로 전자 장치 제조
기판 위에 정밀한 패턴을 생성하는 데 필수적이며, 전자 부품의 소형화 및 기능 향상을 가능하게 합니다.
특수 화학 합성
고유한 화학 구조로 인해 광범위한 전자 산업 내 다양한 특수 화학 합성의 귀중한 중간체입니다.
연구 개발
새로운 포토레지스트 기술 및 전자 소재를 탐구하는 R&D 과학자 및 제형 연구원에게 중요한 소재입니다.
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