半導体の微細化が加速する現代、超高純度の溶媒が歩留まり向上に直結する。特に1-メチル-2-ピロリドン（通称NMP）は、各洗浄工程で“隠れた立役者”として存在感を増している。寧波イノファームケム株式会社の調査によれば、その特徴的な溶解力と熱安定性が、先進プロセスでの歩留まり向上を支える鍵である。

ウェハへの膜付け前には、微粒子・有機残渣・重金属の完全除去が必須だ。NMPは感光性樹脂や重合汚染物質を膨潤・溶解しつつ、シリコン層やLow-k膜を傷付けにくいため、フォトレジスト除去工程で高い評価を受ける。さらに蒸気圧が低く、基板上に留まりやすため、洗浄時間を精密に制御可能で、結果として不具合率の低下に寄与する。

フォトレジストストリッピング以外でも、脱脂・デボンド・アスキー除去といった総合洗浄用途に幅広く用いられる。ここで求められるNMPはICピュアグレード以上の極限純度で、ナノレベルの金属汚染すら許容されない。特にアービング時のチッソ・水分管理は、性能差を生む重要なファクターだ。

しかし高機能ゆえの懸念もある。生殖毒性に分類されるため、排気設備・局所排気の二重化、防護手袋・防毒マスクの着用など、厳格な管理が求められる。同時にEU REACHや各国規制は不断强化しており、業界はグリーンケミストリーの代替溶媒開発にも注力している。ただし現時点では同等の性能を示す後継品は揃わず、NMPは依然として重要なプロセス基準となっている。

今後もデバイスの高集積化が進めば、クリーニング精度への要求は高まる一方だ。それだけに高純度NMPの安定調達は各社にとって死活問題となる。寧波イノファームケム株式会社は、電子工業グレードのNMPを常時在庫し、半導体メーカーの技術革新をバックアップしている。ご用命の際は、カスタム純度やドラム・IBCといった複数の供給形態にてご対応いたします。