Tetraethoxysilan (TEOS): Eine vielseitige Chemikalie für fortschrittliche Materialien und industrielle Anwendungen

Entdecken Sie die vielfältigen Anwendungen von Tetraethoxysilan (TEOS), einer entscheidenden Organosiliciumverbindung. Erforschen Sie seine Rolle als Vorläufer für Siliziumdioxid, als Schlüsselkomponente in Sol-Gel-Prozessen und seine Vorteile in Beschichtungen, Halbleitern und darüber hinaus. Als führender Anbieter liefern wir hochreines TEOS für Ihre fortschrittlichen Materialanforderungen. Kontaktieren Sie uns für aktuelle Preise und Produktionsdetails.

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Wichtige Vorteile der Beschaffung Ihres Tetraethoxysilan-Bedarfs

Außergewöhnliche Reinheit und Konsistenz

Unser Tetraethoxysilan wird nach höchsten Reinheitsstandards hergestellt, um eine konsistente Leistung in Ihren kritischen Anwendungen zu gewährleisten. Als führender Lieferant garantieren wir die Qualität von CAS 78-10-4 für Ihre Forschungs- und Entwicklungsarbeiten oder Ihre Großserienproduktion. Wir stehen Ihnen als Hersteller für konstante Qualität zur Verfügung.

Vielseitige chemische Reaktivität

Nutzen Sie die einzigartige Reaktivität von TEOS in Sol-Gel-Prozessen zur Herstellung innovativer Materialien. Seine Fähigkeit zur Bildung von Si-O-Si-Bindungen ist grundlegend für die Herstellung von Siliciumdioxid-basierten Materialien mit maßgeschneiderten Eigenschaften, was es zu einem wertvollen Zwischenprodukt für Chemiker und Formulierer macht.

Breite industrielle Anwendungen

Von der fortschrittlichen Halbleiterfertigung und Schutzbeschichtungen bis hin zu Keramikbindemitteln und Katalysatoren bietet Tetraethoxysilan ein breites Anwendungsspektrum. Arbeiten Sie mit uns, einem zuverlässigen Hersteller, zusammen, um eine kontinuierliche Versorgung für Ihre Produktionsprozesse sicherzustellen. Fragen Sie jetzt Ihren Bedarf an.

Vielfältige Anwendungen von Tetraethoxysilan

Halbleiterfertigung

TEOS wird in der Halbleiterindustrie häufig als Vorläufer für die Abscheidung von Siliziumdioxid (SiO2)-Dünnschichten mittels Chemical Vapor Deposition (CVD) und Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) eingesetzt. Seine kontrollierte Zersetzung liefert hochqualitative dielektrische Schichten. Als Ihr Lieferant stellen wir die benötigten Mengen bereit.

Sol-Gel-Prozesse

Als Ethylester der Orthokieselsäure ist TEOS ein grundlegendes Material für die Sol-Gel-Chemie, das die Synthese von Siliciumdioxid-basierten Materialien, Keramiken und Gläsern mit einzigartigen Mikrostrukturen und Eigenschaften ermöglicht. Kontaktieren Sie uns für Preisinformationen.

Fortschrittliche Beschichtungen und Dichtstoffe

Ethylsilikat-Formulierungen werden zur Herstellung haltbarer, wetterfester und chemisch inerter Beschichtungen und Dichtstoffe verwendet, die Schutz und verbesserte Oberflächeneigenschaften für verschiedene Substrate bieten. Wir sind Ihr Anbieter für diese hochwertigen Komponenten.

Katalyse und Materialsynthese

TEOS dient als Vorläufer für Siliciumdioxid-Träger in heterogenen Katalysatoren und wird bei der Synthese von Aerogelen und anderen porösen Materialien eingesetzt, was seine breite Anwendbarkeit in der chemischen Synthese unterstreicht. Unser Herstellerbetrieb garantiert höchste Qualität.

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