Hochreines 2-(2-Methoxyphenoxy)ethylamin-Hydrochlorid für fortschrittliche Elektronik-Anwendungen

Ein kritischer Baustein für Hochleistungs-Photoresist-Formulierungen und die fortschrittliche Synthese von Elektronikmaterialien. Ihr zuverlässiger Hersteller und Lieferant für höchste Qualität.

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Angebotene Schlüsselvorteile

Außergewöhnliche Reinheit

Gewährleistet zuverlässige und reproduzierbare Ergebnisse in sensiblen elektronischen Fertigungsprozessen und macht es zu einem gefragten chemischen Synthese-Zwischenprodukt. Direkt vom Produzenten.

Vielseitige Anwendung

Breit einsetzbar in Photoresist-Formulierungen für Elektronikchemikalien, was zu verbesserter Leistung und Effizienz beiträgt. Fordern Sie jetzt ein unverbindliches Preisangebot an.

Zuverlässige Beschaffung

Die Verfügbarkeit von CAS 64464-07-9 von vertrauenswürdigen Lieferanten unterstützt eine konsistente Produktion und Forschung und erleichtert den Kauf dieser entscheidenden Verbindung. Ihr Partner für kontinuierliche Versorgung.

Schlüssel-Anwendungsbereiche

Photoresist-Formulierungen

Unerlässlich für die Erstellung hochauflösender Muster in der Halbleiterlithographie, Nutzung seiner Eigenschaften als Photoresist für Elektronikchemikalien.

Spezialchemikalien-Synthese

Dient als wichtiger Baustein in komplexen chemischen Synthesen und ermöglicht die Herstellung neuartiger Chemikalien in Elektronikqualität. Wir sind Ihr Hersteller für maßgeschneiderte Lösungen.

Entwicklung fortschrittlicher Materialien

Trägt aufgrund seiner spezifischen chemischen Eigenschaften zur Entwicklung von Elektronikmaterialien der nächsten Generation bei.

Forschung und Entwicklung

Eine wertvolle Verbindung für F&E in verschiedenen Bereichen, die hochwertige chemische Zwischenprodukte für Experimente und Innovationen benötigt. Kontaktieren Sie uns für Mengenrabatte.

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