1,1,3,3-Tetrachloro-1,3-Disilabutane: Síntesis, Aplicaciones y Seguridad en Materiales Avanzados
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1,1,3,3-Tetrachloro-1,3-Disilabutane
Este organoclorosilano, CAS 148859-49-8, es un intermediario vital conocido por su reactividad y versatilidad. Sus enlaces Si-Cl le permiten actuar como un bloque de construcción fundamental en la síntesis de materiales avanzados, contribuyendo a innovaciones en electrónica, polímeros y aplicaciones químicas especializadas. Como fabricante directo, aseguramos la calidad y ofrecemos precios competitivos.
- Alta Pureza y Reactividad: Con un ensayo del 90% min, este compuesto es ideal para aplicaciones que requieren reacciones químicas precisas y propiedades de materiales consistentes, cruciales para la síntesis de organosilicio.
- Utilidad Sintética Versátil: Sirve como un precursor clave en diversas vías sintéticas, incluyendo la formación de polisilaetileno lineales, lo que lo hace indispensable para desarrollar polímeros novedosos a base de silicio.
- Precursor de Materiales Avanzados: Su papel se extiende a ser un componente crítico en la creación de materiales de alto rendimiento como elastómeros de silicona, mejorando su flexibilidad y resistencia térmica.
- Intermediario Clave en Deposición de SiC: Como precursor de fuente única para Deposición Química de Vapor (CVD), es fundamental para producir películas estequiométricas de carburo de silicio (SiC) esenciales para la fabricación de semiconductores.
Ventajas Clave
Propiedades de Material Mejoradas
La incorporación en formulaciones de silicona aumenta significativamente las propiedades mecánicas y la resistencia térmica, un beneficio aprovechado en aplicaciones de precursor de elastómero de silicona.
Facilita Síntesis Complejas
La estructura y los enlaces Si-Cl reactivos del compuesto lo convierten en una herramienta poderosa para reacciones de acoplamiento dehidrohalogenativo, permitiendo la creación de diversos compuestos de organosilicio para usos especializados.
Crucial para la Fabricación de Semiconductores
Su utilidad como precursor en procesos CVD para películas de SiC resalta su importancia en la industria de semiconductores, contribuyendo al desarrollo de dispositivos electrónicos de alta potencia.
Aplicaciones Clave
Fabricación de Semiconductores
Utilizado en Deposición Química de Vapor (CVD) para producir películas de carburo de silicio (SiC) de alta calidad, vitales para componentes electrónicos avanzados. Como proveedor de precursores de alta pureza, garantizamos la consistencia.
Síntesis Orgánica
Sirve como un intermediario versátil en reacciones de acoplamiento dehidrohalogenativo, conduciendo a la síntesis de derivados de silano especializados. Contáctenos para conocer nuestra gama de productos y obtener cotizaciones de precio.
Ciencia de Materiales
Actúa como precursor para elastómeros de silicona de alto rendimiento, mejorando su flexibilidad, estabilidad térmica y características mecánicas generales. Explore nuestras soluciones de materiales avanzadas con nuestro equipo.
Precursor para Polímeros a Base de Silicio
Esencial en la polimerización controlada de compuestos como el polisilaetileno, permitiendo la creación de materiales solubles y procesables para moldeo de fibras. Somos su fabricante preferido para intermediarios de organosilicio.
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