Ethyl 4-(Dimethylamino)benzoate: Tingkatkan Efisiensi Pengawetan UV Anda
Sinergis amina kunci untuk meningkatkan sensitivitas UV dan mempercepat fotopolimerisasi dalam formulasi Anda dari produsen terkemuka.
Dapatkan Penawaran & SampelNilai Inti Produk
Ethyl 4-(Dimethylamino)benzoate
Ethyl 4-(Dimethylamino)benzoate adalah sinergis amina yang sangat efektif yang secara signifikan meningkatkan kinerja inisiator foto radikal. Ia bertindak sebagai fotosensitizer, meningkatkan sensitivitas UV keseluruhan formulasi tanpa kemampuan inisiasi foto langsung. Senyawa ini sangat penting untuk sintesis bahan sensitif foto berefisiensi tinggi dan menawarkan perlindungan terhadap radiasi UV, menjadikannya ideal untuk aplikasi canggih. Kami adalah pemasok terpercaya untuk produk berkualitas ini.
- Rasakan peningkatan sensitivitas UV dalam formulasi Anda saat menggunakan sinergis amina penting ini.
- Percepat fotopolimerisasi resin untuk meningkatkan kecepatan pemrosesan dan efisiensi.
- Manfaatkan perlindungan radiasi UV dalam aplikasi material khusus.
- Capai kinerja optimal dengan memasukkan sinergis amina padat untuk tinta litografis dan aplikasi menuntut lainnya.
Keunggulan Produk Utama
Peningkatan Sensitivitas UV
Sebagai fotosensitizer, ini secara signifikan meningkatkan penyerapan cahaya dan transfer energi ke inisiator foto utama, sehingga meningkatkan sensitivitas UV dalam formulasi.
Kecepatan Pengawetan yang Dipercepat
Sinergis ini membantu mempercepat fotopolimerisasi resin, yang mengarah pada waktu pengawetan yang lebih cepat dan peningkatan throughput produksi dalam berbagai proses industri.
Kompatibilitas Aplikasi Luas
Efektivitasnya sebagai sinergis untuk tinta litografis dan aplikasi lain seperti perekat dan tinta sablon menjadikannya aditif yang serbaguna. Dapatkan harga terbaik dari pemasok kami.
Aplikasi Utama
Pelapis yang Dapat Diawetkan dengan UV
Digunakan untuk meningkatkan efisiensi pengawetan UV dalam pelapis, memberikan pengeringan lebih cepat dan sifat permukaan yang ditingkatkan.
Tinta Cetak
Esensial sebagai sinergis untuk tinta litografis dan tinta sablon, ini memastikan pengawetan cepat dan hasil cetak yang cerah.
Perekat
Kemampuannya untuk mempercepat fotopolimerisasi membuatnya berharga dalam formulasi perekat yang dapat diawetkan dengan UV untuk pengikatan yang kuat dan cepat.
Formulasi Photoresist
Memainkan peran penting dalam manufaktur semikonduktor dan produksi PCB dengan meningkatkan sensitivitas material photoresist.