【先端電子材料向け】2-(2-メトキシフェノキシ)エチルアミン塩酸塩
高性能フォトレジスト製剤および先端電子材料合成に不可欠なコンポーネント。メーカーより高品質な製品を供給いたします。
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2-(2-メトキシフェノキシ)エチルアミン塩酸塩
この高純度化学中間体は、特にフォトレジスト分野における先端電子材料の開発に重要な役割を果たします。その精密な化学構造と一貫した品質は、高度な電子製造プロセスで優れた性能を達成するために不可欠なコンポーネントとなっています。信頼できるサプライヤーからの安定供給により、研究開発ニーズをサポートします。
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- 最先端の半導体製造における電子化学品フォトレジストの応用例を探求しましょう。
- 化学合成中間体を活用して、特定の電子特性を持つ新規材料をどのように作成できるかをご覧ください。
- 研究開発ニーズのために、信頼性の高いCAS 64464-07-9を調達するメリットを理解しましょう。
主な利点
卓越した純度
デリケートな電子製造プロセスにおいて、信頼性と再現性の高い結果を保証します。化学合成中間体として高く評価されています。
多様な応用性
電子化学品フォトレジスト製剤に幅広く応用可能で、性能と効率の向上に貢献します。
確実な調達
信頼できるサプライヤーからのCAS 64464-07-9の入手可能性は、一貫した生産と研究をサポートし、この重要な化合物の購入を容易にします。
主な用途
フォトレジスト製剤
電子化学品フォトレジストとしての特性を活かし、半導体リソグラフィーにおける高解像度パターンの作成に不可欠です。
特殊化学品合成
複雑な化学合成における重要なビルディングブロックとして機能し、新規の電子グレード化学品の作成を可能にします。
先端材料開発
その特定の化学的特性により、次世代電子材料の開発に貢献します。メーカーとしての当社の製品は、研究開発を強力にサポートします。
研究開発
実験やイノベーションのために高品質な化学中間体を必要とする様々な分野での研究開発に価値ある化合物です。価格に関するご相談もお受けしております。
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