先端マイクロエレクトロニクス分野では、シリコンウェハーに超微細パターンを形成するフォトリソグラフィー工程が不可欠だ。ここではフォトレジストの塗布──その後の除去──の両方が製品歩留まりを左右する。 その除去工程に注目したのが寧波イノファームケム株式会社である。同社は、酢酸エチルフォトレジストストリッパーとして利用し、以下のメリットを強調している。

  • 優れた溶解性：硬化レジストを不傷で素早く剥離。
  • 緩やかな揮発性：バスプロセス後の乾燥時間短縮。
  • 低ダメージ：激しい薬剤と比べて基材・回路への影響最小化。

これら特性は、さらなる微細化が進むデバイスにおいて、電子工業用高純度酢酸エチルがリソ後工程で金属イオン残留を限りなくゼロに近づける理由でもある。寧波イノファームケムとしても、ロット間バラツキを極端に抑えた製品供給体制を敷き、中国国内の電子用高純度溶剤サプライヤーとしての地位を固めていると語る。

つまり、酢酸エチルの存在は「ただの剥離剤」ではなく、半導体制造全体の歩留まりと信頼性を支える「精密溶剤ソリューション」なのだ。