【高純度】硫化スズ(IV) SnS2 (CAS 1315-01-1)｜先端産業向け半導体材料
バンドギャップ2.2 eVを持つ重要な半導体材料、硫化スズ(IV) (SnS2)のユニークな特性をご覧ください。その高い純度と応用性は、最先端の電子・産業用途に最適です。この多用途なファインケミカルについて、さらに詳しくご覧ください。高品質なSnS2を安定供給するメーカーとして、価格やサンプルについてもお気軽にお問い合わせください。
価格・サンプルのお問い合わせ製品のコアバリュー
硫化スズ(IV)
特殊化学品のリーディングサプライヤーとして、CAS番号1315-01-1のSnS2（硫化スズ(IV)）を高純度で提供しています。バンドギャップ2.2 eVを持つ半導体特性で知られるこの化合物は、様々な先進技術用途に不可欠です。中国における信頼できるサプライヤーとして、一貫した品質と供給を保証します。当社は中国の主要メーカーであり、お客様の半導体材料のニーズに応えるため、安定した品質と競争力のある価格をご提供いたします。
- 先端電子デバイスに不可欠なSnS2のユニークな半導体特性をご確認ください。
- 研究・産業用途向けに、CAS 1315-01-1の高純度硫化スズ(IV) (SnS2) 粉末を調達してください。
- 正確な材料選定のため、化学式S2Snと分子量182.84を理解しましょう。
- 中国のメーカーとしての専門知識を活用し、半導体材料の要件を満たす一貫した品質をご提供いたします。
製品が提供する利点
精密用途に対応する高純度
高度な半導体材料製造に不可欠な、≥99%の純度を誇る当社のSnS2を活用し、電子アプリケーションにおける優れたパフォーマンスを実現してください。
多用途な半導体特性
薄膜トランジスタ、太陽電池、その他の電子部品に理想的な、硫化スズ(IV)固有の半導体特性をご活用ください。
信頼性の高い化学合成
密度4.5 g/cm³、アルカリ水溶液への溶解性といった明確な特性を持つ製品に依存し、様々な化学プロセスでの使用を容易にします。
主な用途
半導体製造
硫化スズ(IV)を半導体デバイス製造における重要な材料として活用し、その特定のバンドギャップと電子特性を活かしてください。
薄膜成膜
SnS2を薄膜アプリケーションに採用し、様々な産業向けの先進的なコーティングや電子層の開発に貢献してください。
触媒研究
触媒プロセスにおけるSnS2の可能性を調査し、化学合成および工業反応の進歩に貢献してください。
エネルギー貯蔵
次世代バッテリー技術の開発を支援する、エネルギー貯蔵ソリューションにおける硫化スズ(IV)の使用を検討してください。
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