トリメチルシリルアセチレン CAS 1066-54-2: 有機合成・材料科学のための多用途ビルディングブロック
化学合成および先端材料応用におけるトリメチルシリルアセチレンの有用性をご紹介します。弊社は主要メーカーとして、高品質な製品の安定供給と競争力のある価格を提供いたします。
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トリメチルシリルアセチレン
トリメチルシリルアセチレンは、主にシラン保護基としての役割で認識されている、非常に汎用性の高い化学中間体です。安定した液体形態は、気体アセチレンよりも安全で管理しやすい代替品であり、様々な合成手順で大きな利点を提供します。純度≥98.0%という高いアッセイ値は、重要な化学反応における信頼性を保証します。信頼できるサプライヤーをお探しですか？弊社にお任せください。
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- 薄膜からポリマーまで、先端材料における多様なエチニルトリメチルシラン用途を探求してください。
- 現代化学において好まれる試薬となっている、不可欠なトリメチルシリルアセチレン化学的性質を理解してください。
- このシラン保護アセチレンが、数多くの有機変換において安定かつ反応性の高い合成子としてどのように機能するかを学んでください。
製品が提供する利点
安全性の向上と取り扱いの容易さ
気体アセチレンとは異なり、トリメチルシリルアセチレンは液体であるため、取り扱いが簡素化され、実験室および産業現場での安全リスクが低減されます。これにより、ターゲット化合物のトリメチルシリルアセチレン合成がより容易になります。
合成における多用途な反応性
その構造は、パラジウム触媒カップリングや求核攻撃を含む幅広い反応を可能にし、有機合成ビルディングブロックにとって不可欠なツールとなっています。
材料科学における革新
エチニルトリメチルシランのレーザー誘起重合における前駆体として、ポリカルボシラン膜の効率的な化学気相成長を可能にし、材料科学の進歩に貢献しています。
主な用途
エチニル化反応
トリメチルシリルアセチレンは、アリールおよびビニルハライド、トリフラートとのパラジウム(0)触媒カップリング/縮合によるエチニル化に用いられる貴重な試薬であり、有機合成ビルディングブロックにおけるその重要性を示しています。
化学気相成長（CVD）
本化合物は、レーザー誘起重合によるポリカルボシラン膜の効率的な化学気相成長を促進し、レーザー誘起重合エチニルトリメチルシランにおけるその役割を強調しています。
クロスカップリング反応
ベンゾニトリルとのニッケル触媒クロスカップリングの基質として機能し、様々な触媒プロセスにおける有用性を示し、トリメチルシリルアセチレン化学的性質の理解を深めています。
不斉合成
トリメチルシリルアセチレンは、不斉合成の一般的な中間体であり、立体化学的に定義された分子の作成を可能にし、シラン保護アセチレンとしての地位を強化しています。
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