高度な触媒反応向け高純度キラルホスフィン配位子

特殊ホスフィン配位子で、優れたエナンチオ選択性と反応効率を解き放ちましょう。

製品のコアバリュー

この高品質なキラルホスフィン配位子は、精密なエナンチオ選択的合成の実現と高度な遷移金属触媒反応の促進に不可欠なコンポーネントです。そのユニークな構造は、立体および電子的特性の微調整を可能にし、優れた触媒性能をもたらします。

合成ルートにおける比類なき立体化学的制御を達成してください。これは医薬品中間体合成において極めて重要な要素です。当社の配位子の正確な原子配置は、最適な不斉合成結果を保証します。

この配位子は、不斉還元やヘック反応を含む、幅広い遷移金属触媒反応で効果的であることが証明されており、多様なファインケミカル応用におけるその汎用性を高めます。

ホスフィノオキサゾリン配位子のモジュラー性質は、特性のカスタマイズを可能にし、化学者が特定のターゲットのために反応条件を微調整し、全体的な効率を向上させることができます。

このキラル配位子を、オレフィンやイミンの高効率不斉水素化に活用し、エナンチオマー的に純粋な化合物の製造に貢献します。

ヘック反応における配位子の有効性は、望ましくない二重結合異性化なしの安定した触媒作用を保証し、複雑な有機骨格の構築に不可欠です。

ファインケミカル製造の多くの合成経路の基盤であるアリル位置換反応において、制御性と選択性の向上を体験してください。

触媒分野における学術的および産業的研究に最適で、この配位子は新しい反応メカニズムの探求や新規触媒システムの開発のための信頼できるプラットフォームを提供します。