酸化ガリウム(III)：特性、応用、そして新たな役割

ワイドバンドギャップ半導体Ga₂O₃が、最先端エレクトロニクスおよび材料科学に革新をもたらすポテンシャルを発見してください。

製品の中核価値

酸化ガリウム(III)（Ga₂O₃）は、切断刃な技術応用に卓越した特性を提供する重要なワイドバンドギャップ半導体材料として注目されています。その固有の特性は、次世代電子および光エレクトロニクスデバイスの開発における重要なコンポーネントとなります。

酸化ガリウムのワイドバンドギャップと高い絶縁破壊耐性を活用し、先進パワーセミコンダクタデバイス向けに高い効率と性能を実現します。

Ga₂O₃の透明酸化物導電膜（TCO）能力と発光特性を活用し、光エレクトロニクスデバイスや先進ディスプレイに不可欠です。

大口径ウェハのコスト効率よい生産可能性を享受し、酸化ガリウムをSiCやGaNに対する競合代替材料として位置づけます。

高い絶縁破壊耐性とワイドバンドギャップにより、酸化ガリウムは高電圧パワースイッチング応用に最適な候補となります。

Ga₂O₃の透明性および半導体特性は、UV光検出器を含む先進光エレクトロニクスデバイスの開発において不可欠です。

ガスへの応答性の高さにより、酸化ガリウム粉末は高精度かつ高効率なガス検知システムの開発において極めて貴重です。

酸化ガリウムは蛍光体および発光材料に用いられ、照明およびディスプレイ技術に貢献しています。