高機能フッ素化ジアミンモノマー：ポリイミド・ポリベンゾオキサゾール合成の最適解

当社の高純度フッ素化ジアミンモノマーで、先端材料の可能性を解き放ち、スーペリアパフォーマンスを実現します。

製品の中核価値

2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)-hexafluoropropane

この先端化合物はハイパフォーマンスポリマー、特にポリイミドやポリベンゾオキサゾール合成の決定的ビルディングブロックです。フッ素骨格が卓越した熱安定性と耐薬品性を付与し、電子、航空宇宙、エネルギー分野の過酷な環境で不可欠です。信頼のポリイミド合成モノマーサプライヤーとして日本市場に安定供給します。

耐熱性ポリマー原料として本モノマーを採用し、高プロセス温度でも安定した薄膜を成型できます。
ポリイミド合成モノマーとして使用することで、独自機能特性を持つ特殊ポリマーの設計・量産が可能です。
電子材料モノマーとして最先端半導体チップ向けの高信頼層間膜生成に活用されています。
ポリベンゾオキサゾール膜材料として高度分離膜や半導体プロセスにおける精密微細パターン形成に貢献します。

メーカー保証の主要アドバンテージ

超卓熱安定性

フッ素化ポリイミドモノマーである当製品は極限高温でも構造完整性を維持し、先端用途での信頼性を担保します。

幅広い耐薬品性

製造元が厳格に管理した本モノマー導入により、各種化学品に対して優れた耐性ポリマー生成を実現し、厳しい工業環境でも耐久性が向上します。

アドバンストポリマー設計の自由度

ハイパフォーマンスポリマービルディングブロックとして使用することで、メカニカル・物理特性を精密にチューニングし、お客様の用途特化型量産レシピ構築をサポートします。

主要アプリケーション

ポリマーシンセシス

当ポリイミド合成モノマーは、超耐熱性・高機械強度を実現するポリマーの構築ブロックとして電子回路基板や航空宇宙部材用樹脂の設計に必須です。

電子材料

電子材料モノマーとして採用することで、微細回路形成性が向上した半導体層間絶縁膜や高周波コーティングに次世代性能を付与します。

燃料電池技術

燃料電池ポリマープレカーサーとしての高プロトン伝導性・長期耐久性により、エネルギー変換効率を向上させる膜電極接合体へ拡大販売しております。

半導体製造

ポリベンゾオキサゾール膜材料として当モノマーを使用すると、微細パターン精度要求が高い半導体製造プロセスでの歩留まり向上に直結します。