제품 카테고리: 포토레지스트 화학

(2-아미노-5-니트로페닐)(2-클로로페닐)메타논

(2R,3R)-2,3-부탄디올

(E)-2-헥센-1-올

(S)-2-[5-[4-(4,4,5,5-테트라메틸-1,3,2-디옥사보롤란-2-일)페닐]-1H-이미다졸-2-일

[1,1'-Biphenyl]-4-ol, 4'-bromo-

1-(2-하이드록시에틸)-2-이미다졸리디논

1-운데센

1,4-비스(이소시아나토메틸)-벤젠

1,4-비스(이소시아나토메틸)사이클로헥산

1H-벤즈이미다졸, 2-[[(4-메톡시-3-메틸-2-피리디닐)메틸]설피닐]-6-(1H-피롤-1-일)-

2-부틸-2-에틸-1,3-프로판다이올

2-브로모-1-(2,2-디메틸-4H-1,3-벤조디옥신-6-일)에탄온

2-아미노-3-니트로피리딘

2-아세틸피리딘

2-옥사졸리디논,5-(4-모르폴리닐메틸)-3-[[(5-니트로-2-푸라닐)메틸렌]아미노]-

2-이소프로필-1H-이미다졸

2-클로로-5-니트로벤조산

2-페닐아세트아마이드

2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 이염산염

3-(3-(트리플루오로메틸)페닐)아크릴산

3-머캅토페놀

3-메타크릴록시프로필메틸디메톡시실란

3-메톡시프로필아민

3-메틸-5-(트라이플루오로메틸)피라졸