2-Propenoic acid, 3-(3-(trifluoromethyl)phenyl)- CAS 779-89-5: 귀사의 신뢰할 수 있는 첨단 전자화학 제품 공급업체

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3-(3-(트리플루오로메틸)페닐)아크릴산의 주요 응용 분야

포토레지스트 제형

이 화합물은 반도체 제조 및 마이크로일렉트로닉스에 사용되는 첨단 포토레지스트 제형의 중요한 구성 요소로, 정확한 패턴 전송을 가능하게 합니다.

유기 합성 중간체

이는 복잡한 분자, 특히 제약 및 첨단 재료에 중요한 트리플루오로메틸 그룹을 가진 분자 생성에 있어 귀중한 빌딩 블록입니다.

전자 화학 개발

신규 전자 화학 물질의 연구 개발에 사용되며, 그 독특한 특성은 전자 분야에서 혁신적인 솔루션에 기여합니다.

재료 과학 연구

연구원들은 그 구조적 특성에 힘입어 특정 광학 또는 전자 특성을 가진 새로운 재료 개발을 위해 이 화학 물질을 활용합니다.

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