5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2(3H)-티온: 첨단 포토레지스트 제형의 핵심
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견적 및 샘플 요청제품 핵심 가치
5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2(3H)-티온
CAS 2349-67-9로 식별되는 이 화합물은 전자 화학 분야, 특히 정교한 포토레지스트 재료 개발에서 매우 중요한 역할을 하는 핵심 구성 요소입니다. 독특한 화학 구조는 리소그래피 공정에서 향상된 성능을 제공하여 현대 마이크로일렉트로닉스 제조에 필수적입니다.
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신뢰할 수 있는 이점
향상된 포토레지스트 성능
포토레지스트 화학 물질 공급업체 옵션을 탐색할 때 핵심 이점인 포토레지스트 제형에서 우수한 해상도와 감도를 달성하기 위해 5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2(3h)-티온의 독특한 특성을 활용하십시오.
안정적인 화학 합성
다재다능한 정밀 화학 물질로서, 이 티아디아졸 유도체는 효율적인 화학 합성 경로를 촉진하여 고부가가치 전자 재료 및 부품 생산을 지원합니다.
일관된 품질 및 순도
명망 있는 공급처로부터 소싱하면 수요가 많은 전자 응용 분야에 필수적인 일관된 품질과 높은 순도를 보장받을 수 있으며, 이는 최고의 중국 전자화학 물질 제조업체에서 강조하는 바입니다.
주요 응용 분야
포토레지스트 재료
광학 리소그래피를 통한 정확한 패턴 전송을 가능하게 하는 반도체 제조에 필수적입니다. 성능을 최적화하려면 5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2(3h)-티온 특성을 이해하십시오.
전자 화학 물질 합성
모든 품질 포토레지스트 화학 물질 공급업체의 핵심 초점인 전자 산업을 위한 다양한 특수 화학 물질 합성에서 중간체 또는 첨가제로 사용됩니다.
재료 과학 연구
헤테로고리 구조와 반응성 그룹으로 인해 새로운 전자 및 기능성 재료에서의 잠재력을 연구합니다.
특수 화학 제형
고유한 화학적 특성을 요구하는 특수 제형에 통합되어 5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2(3h)-티온 구매 시 제품 효능과 신뢰성을 보장합니다.
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