Sílica Coloidal de Alta Pureza para Aplicações Avançadas de Polimento de Semicondutores

Alcance precisão e qualidade de superfície incomparáveis na fabricação de semicondutores com nossa sílica coloidal avançada.

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Vantagens Oferecidas pelo Produto

Pureza Incomparável

Experimente a vantagem da sílica sol de ultra-alta pureza, minimizando impurezas metálicas para proteger componentes sensíveis de semicondutores durante o polimento.

Acabamento de Superfície Superior

Alcance especificações críticas de rugosidade superficial com nossa sílica sol, permitindo superfícies sem deformação essenciais para o desempenho de dispositivos semicondutores avançados.

Eficiência Aprimorada do Processo

Nossa sílica coloidal para processos de CMP melhora as taxas de remoção de material, otimizando o polimento de wafers e aumentando a eficiência geral da fabricação.

Principais Aplicações

Polimento de Semicondutores

A principal aplicação de nossa sílica sol de alta pureza é no polimento químico-mecânico (CMP) de wafers de semicondutores, garantindo qualidade de superfície impecável. Um produto essencial do nosso portfólio de fabricante.

Suportes de Catalisadores

Sua alta área superficial e porosidade controlada o tornam um excelente material para suportes de catalisadores em vários processos químicos.

Revestimentos

Pode ser incorporado em formulações de revestimento avançadas para melhorar a resistência a arranhões e as propriedades da superfície.

Cosméticos

O tamanho fino das partículas e a pureza também o tornam adequado para uso em formulações cosméticas especializadas para aprimoramento de textura e aparência.

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