2-Iodofenol: Intermediário Versátil para Produtos Químicos Finos, Desinfetantes e OLEDs
Explore as propriedades e aplicações do 2-Iodofenol (CAS 533-58-4), um composto-chave para diversas necessidades industriais.
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2-Iodofenol
O 2-Iodofenol (CAS 533-58-4) é um importante intermediário de produtos químicos finos, reconhecido por sua utilidade em diversos setores. Tipicamente aparece como um pó cristalino amarelo com alto nível de pureza, tornando-o adequado para aplicações exigentes.
- Este composto é valioso por seu uso em síntese orgânica, servindo como bloco fundamental para moléculas mais complexas.
- Suas propriedades antifúngicas o tornam um candidato para formulações desinfetantes.
- O 2-Iodofenol também é empregado como intermediário para OLEDs e cristais líquidos, contribuindo para avanços em telas eletrônicas.
- O produto químico também é utilizado como traçador aditivo para processos de plasma etching de resists na indústria eletrônica.
Vantagens Oferecidas pelo 2-Iodofenol
Ampla Aplicabilidade
Desde sua função na síntese orgânica até seu uso em materiais eletrônicos avançados, a versatilidade do 2-Iodofenol é uma vantagem significativa.
Eficácia Antifúngica
As propriedades antifúngicas inerentes ao 2-Iodofenol abrem portas para sua aplicação em soluções desinfetantes e conservantes.
Habilitando Tecnologias Avançadas
Com intermediário para OLEDs e cristais líquidos, ele desempenha papel crucial no desenvolvimento de tecnologias de exibição de próxima geração.
Principais Aplicações
Síntese Orgânica
Aproveitando seu átomo de iodo reativo e grupo fenol hidroxila, o 2-Iodofenol é reagente valioso em vias sintéticas orgânicas complexas.
Desinfetantes
Suas propriedades antifúngicas sugerem aplicações potenciais em formulações projetadas para sanitização e controle microbiano.
OLEDs e Cristais Líquidos
Como intermediário-chave, contribui para a síntese de materiais utilizados em telas eletrônicas avançadas, aprimorando o desempenho visual.
Traçadores para Plasma Etching
O composto serve como traçador aditivo em plasma etching de resists, auxiliando no monitoramento e controle do processo na fabricação de semicondutores.
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