Cloreto de 4-(Trifluorometil)benzeno-1-sulfonila: Propriedades, Aplicações e Síntese em Produtos Químicos Eletrônicos

Um componente-chave na síntese química avançada e em materiais eletrônicos, oferecendo reatividade e desempenho únicos.

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Vantagens Oferecidas

Reatividade Aumentada

O grupo trifluorometila aumenta significativamente a eletricidade positiva do cloreto de sulfonila, proporcionando reações mais eficientes em substituições nucleofílicas.

Aplicações Sintéticas Versáteis

Sua utilidade abrange a síntese orgânica, permitindo a criação de moléculas complexas e servindo como precursor de uma ampla gama de produtos químicos finos.

Inovações em Ciência dos Materiais

A capacidade de funcionalizar polímeros abre caminhos para desenvolver materiais inovadores com propriedades específicas para necessidades industriais determinadas.

Principais Aplicações

Químicos de Fotorresist

Crucial na formulação de fotorresists, essencial para a fabricação de microeletrônica e processos de litografia.

Síntese Orgânica

Atua como reagente-chave para introduzir grupos sulfonila, facilitando a síntese de moléculas orgânicas complexas, inclusive intermediários farmacêuticos.

Ciência dos Materiais

Utilizado para modificação de superfície de polímeros, aprimorando propriedades relevantes para sistemas de liberação de fármacos e biossensores.

Pesquisa & Desenvolvimento

Explorado quanto a possíveis atividades antibacterianas e anticancerígenas, contribuindo para o desenvolvimento de novos agentes terapêuticos.

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