2-(Диэтиламино)-N-(2,4,6-триметилфенил)ацетамида моногидрохлорид CAS 1027-14-1: Ваш надежный поставщик фоторезистивных химикатов
Откройте для себя ключевые свойства и области применения 2-(диэтиламино)-N-(2,4,6-триметилфенил)ацетамида моногидрохлорида (CAS 1027-14-1), жизненно важного компонента передовых фоторезистивных составов для электронной промышленности. Являясь ведущим производителем и поставщиком, мы гарантируем высокую чистоту и стабильное качество для ваших критически важных нужд в производстве полупроводников. Получите ценовое предложение сегодня.
Получить предложение и образецСердце передовых фоторезистивных составов
2-(Диэтиламино)-N-(2,4,6-триметилфенил)ацетамида моногидрохлорид
Являясь ведущим производителем и поставщиком высококачественных электронных химикатов в Китае, NINGBO INNO PHARMCHEM CO.,LTD. предлагает 2-(диэтиламино)-N-(2,4,6-триметилфенил)ацетамида моногидрохлорид (CAS 1027-14-1). Это соединение незаменимо для разработки сложных фоторезистивных решений, необходимых для высокоточного производства микроэлектроники. Мы стремимся обеспечить надежные поставки и конкурентоспособные цены для наших клиентов по всему миру.
- Высокочистый фоторезистивный химикат: Важен для производства полупроводников и электроники, обеспечивая точную передачу шаблона. Найдите вашего надежного поставщика фоторезистивных химикатов.
- Характеристики CAS 1027-14-1: Молекулярная формула: C15H24 N2 O . Cl H, Молекулярная масса: 284.87. Идеально подходит для требовательных требований к синтезу.
- Надежный производитель в Китае: Используйте наш опыт как ведущего производителя фоторезистивных химикатов для обеспечения вашей цепочки поставок. Покупайте с уверенностью.
- Конкурентоспособные цены и доступность: Изучите наши предложения по цене CAS 1027-14-1 и вариантам оптовых закупок. Свяжитесь с нами, чтобы купить или получить предложение.
Ключевые преимущества для вашего производства
Повышенная чистота и стабильность
Мы гарантируем исключительную чистоту 2-(диэтиламино)-N-(2,4,6-триметилфенил)ацетамида моногидрохлорида (CAS 1027-14-1), что является критическим фактором для достижения высокого разрешения и стабильной производительности в фоторезистивных применениях. Сотрудничайте с надежным поставщиком в Китае.
Надежное управление цепочкой поставок
Как ваш преданный производитель, мы предлагаем стабильные поставки и эффективную логистику для этого ключевого электронного химиката, минимизируя сбои в вашем производственном графике. Узнайте, как эффективно купить.
Техническая поддержка и индивидуальные решения
Воспользуйтесь нашими глубокими техническими знаниями и поддержкой по CAS 1027-14-1. Мы можем помочь с конкретными требованиями и предоставить индивидуальные решения для ваших уникальных фоторезистивных потребностей. Запросите предложение для вашего проекта.
Критические применения в электронике
Фоторезистивные составы
Фундаментальный строительный блок для передовых позитивных и негативных фоторезистов, обеспечивающий точное формирование шаблонов в полупроводниковой литографии. Ищите лучшую цену на фоторезистивные химикаты.
Производство полупроводников
Критически важен для изготовления интегральных схем (ИС), плоскопанельных дисплеев (FPD) и MEMS-устройств, обеспечивая точное воспроизведение замысловатых схем.
Синтез специальных химикатов
Служит жизненно важным интермедиатом в синтезе специальных химикатов для электронной и фармацевтической промышленности, подчеркивая его универсальность.
Исследования и разработки
Важное соединение для исследователей, разрабатывающих литографические материалы и электронные компоненты следующего поколения. Покупайте у надежного поставщика.