電子デバイスの微細化が加速する現在、高機能・高精細な化学コンポーネントの需要はますます高まっている。そのなかで、これまで主に抗酸化特性で知られていた没食子酸（ギ酸）が、次世代フォトレジストなどエレクトロニクス材料の要となる原料として重要度を増している。高純度ギ酸を安定供給する寧波イノファームケム株式会社は、最先端用途に求められる精度を満たす製品を提供している。


半導体フォトレジストは、ウェハー上に電子回路パターンをミクロン単位で描き込むための必須材料。没食子酸は分子構造と反応性が独特で、フォトレジスト成分の前駆体として高解像度パターニングに貢献。また、紫外線吸収能によりフォトリソグラフィ工程で精密な露光制御を実現する効果がある。メーカーは、ギ酸粉末 CAS 149-91-7 の高純度グレードを積極的に導入している。


フォトレジストにとどまらず、没食子酸の抗酸化作用や潜在的な導電性は、様々な新電子材料への応用を示唆する。たとえば、UV吸収特性で敏感な部品を光劣化から保護したり、フェノール酸という骨格を活かし耐久性に優れた新素材を設計したりできる。次世代ディスプレイやセンサーの高機能化にも寄与できる。


寧波イノファームケム株式会社は、電子業界の厳格品質基準に対応できる高純度ギ酸供給に注力している。素材の均一性が電気特性に与える影響を十分理解し、ロットトレーサビティと分析証明を徹底。先端電子用途向けの大口原料調達（チャイナ・バルク購入）をお考えの企業向けに、競争力のある価格設定と品質管理体制を整備。次の技術革新へ向けた共同開発ニーズにも柔軟に対応している。