N-(4-オキソシクロヘキシル)フタルイミド CAS 104618-32-8：エレクトロニクスケミカルおよび医薬品合成の重要中間体
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N-(4-オキソシクロヘキシル)フタルイミド
本物質はCAS番号104618-32-8で識別されるN-(4-オキソシクロヘキシル)フタルイミドであり、エレクトロニクスケミカル分野、特にフォトレジストの配合において広く利用される重要な化学中間体です。明確に定義された分子構造(C₁₄H₁₃NO₃)と並外れた純度により、精密な製造プロセスに信頼できるコンポーネントとして機能します。その産業用途に加え、特定の医薬品の合成過程で知られる不純物としても機能しており、品質管理と創薬開発における関連性を際立たせています。
- この化合物は、複雑な分子の創出を可能にする有機合成のビルディングブロックとして欠かせず、先進素材に必須です。
- N-(4-オキソシクロヘキシル)フタルイミド CAS 104618-32-8 の合成を理解することは、生産収率と製品純度の最適化を目指す製造業者にとって不可欠です。
- フォトレジスト化学薬品として、半導体およびプリント基板製造の精密なパターニング工程において貢献します。
- プラミペキソールなどにおける医薬品不純物としての役割は、医薬中間体サプライチェーンにおける正確な化学的特性特定の重要性を示しています。
主要な利点
高純度と一貫性
98.0％以上 (GC,N) の純度を有し、この化合物は感度の高いエレクトロニクスおよび医薬アプリケーションで信頼性と再現性の高い結果を確保し、精密なN-(4-オキソシクロヘキシル)フタルイミド合成プロセスを支えます。
多用途化学中間体
独自の化学構造により、幅広い有機合成用途に貴重な中間体となり、新規材料および化合物の開発に貢献します。
エレクトロニクスにおける重要な役割
フォトレジスト配合におけるコンポーネントとして、現代の半導体製造およびプリント回路基板製造に必要な高解像度パターニングに不可欠です。
主要用途
フォトレジスト配合
半導体ウェハおよびPCBに高精度パターンを形成するための必須、エレクトロニクス製造業界において極めて重要です。
医薬品合成
活性成分の合成における前駆体または不純物として使用され、創薬開発および品質管理に影響を与えます。
有機合成ビルディングブロック
研究開発において様々な有機化合物および複雑分子を合成するための多用途スターティング材料として機能します。
スペシャリティ化学薬品
その独自の特性は、特定の分子構造および反応性を要するその他の特殊化学産業への用途が可能です。