Fortschrittliches Organophosphor-Derivat für verbesserten Kupferschutz in Säuren

Organophosphor-Derivat

Dieses fortschrittliche Organophosphor-Derivat, bekannt als DAMP, wurde rigoros auf seine außergewöhnliche Leistung bei der Verhinderung von Kupferkorrosion in hochaggressiven Säureumgebungen wie Schwefel- und Salzsäure untersucht. Seine Wirksamkeit beruht auf einem starken Adsorptionsmechanismus auf der Kupferoberfläche, der eine robuste Schutzschicht bildet. Als Ihr Hersteller garantieren wir höchste Reinheit und Effizienz.

• Untersuchung des Adsorptionsmechanismus für Kupferkorrosionsschutzmittel zeigt die Fähigkeit von DAMP zur Chemisorption und Physisorption auf Kupferoberflächen durch seine Heteroatome (N, O, P) und Pi-Elektronen. Dies ist entscheidend für den Schutz.
• Quantenchemische Untersuchung von Korrosionsschutzmitteln hebt die günstige elektronische Struktur von DAMP hervor, die zu seiner starken Schutzwirkung beiträgt. Ideal für anspruchsvolle Anwendungen.
• Einfluss der Inhibitor-Konzentration auf die Korrosionsrate zeigt eine signifikante Reduzierung der Korrosion mit steigender DAMP-Konzentration, mit optimaler Hemmung bei 180 ppm. Wir liefern die optimale Konzentration für Ihren Bedarf.
• SEM EDX-Analyse von Korrosionsschutzmitteln bestätigt die Ablagerung einer schützenden DAMP-Schicht auf der Kupferoberfläche, was die Beschädigung erheblich reduziert.